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一、PTL-VM2000 等离子清洗机设备简介：

PTL-VM2000等离子清洗机可支持8英寸处理。

PTL 系列低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下，等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体, 利用真空泵将工作室进行抽真空达到 30-100pa 的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态），其显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

等离子处理优点：

1.环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。

2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理；

3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10 -1000 埃），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能；

5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。

6. 全过程可控工艺：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行工艺质量控制。

7. 处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。

二、PTL-VM2000 等离子清洗机技术参数

1、设备外形尺寸: 600(W)×540(D)×1550(H)mm

2、真空仓体尺寸: 240(W)*240(H)*400(D) 约 20L

3、仓体结构: 航空铝合金腔体，内置容式耦合电极，电极尺寸 220(W) ×300(D) mm,5 层。

4、等离子发生器: 德国 PTL 射频发生器技术，频率 40khz，功率 0-600W 调节，自动匹配，全电路保护，可连续长时间工作。（风冷）。

5、控制系统:PLC 触摸屏全自动控制，采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件,有手动、自动两种控制模式，真彩台达触摸屏，西门子可编程控制器（PLC），美国产真空压力传感系统，可在线监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数，并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式下设置各项工艺参数，可一键启动，连续重复运行。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

6、PTL-VM2000 采用立式结构设计，设备设计紧凑，整体一体化设计，采用全自动控制模式，适合于工厂中小批量产品生产。

三、PTL-VM2000 等离子清洗机工艺流程：

3.1 处理工艺流程

装入工件→抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理→回冲气体→取出工件

3.2 工艺控制：

3.2.1 处理时间控制： 1 秒～120 分钟连续可调。

3.2.2 等离子放电压力：30～50Pa

3.2.3 功率设定范围：0～600W 连续可调

3.2.4 两路工艺气体流量设定范围： 气体 1（0～160ml/min） 气体 2（0～500ml/min）

3.3 PLC 软件功能（操控界面）

3.3.1 主画面：实时监视并显示运行状态及数据，等离子电源功率、气体流量、阀门开关、真空

压力、运行时间等。

3.3.2 参数设置：可设定、修改工艺参数及步骤。

3.3.3 工作状态：可在线查看真空压力、等离子功率等数据及状态。

33.4 故障报警：多种故障检测、报警及互锁保护。

四、真空泵：双级旋片泵

五、场地要求

电 源：两相三线，独立接地，接地电阻≤2Ω。应使用截面积 3mm2以上的接地线将设备接至PE。

真空泵排放气管：软管，管径（内径）建议将排气管接至室外。

场地温度：≤40℃

相对湿度：RH（35-85）%