EX2 自动椭圆偏振测厚仪
产品简介
详细信息
EX2自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）椭偏测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。
EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX2仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。
特点：
- 经典消光法椭偏测量原理
仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
- 方便安全的样品水平放置方式
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
- 紧凑的一体化结构
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便使用。
- 高准确性的激光光源
采用激光作为探测光波，测量波长准确度高。
- 丰富实用的样品测量功能
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
- 便捷的自动化操作
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
- 安全的用户使用权限管理
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。
- 可扩展的仪器功能
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用
EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
技术指标:
| 项目 | 技术指标 |
| 仪器型号 | EX2 |
| 测量方式 | 自动测量 |
| 样品放置方式 | 水平放置 |
| 光源 | He-Ne激光器，波长632.8nm |
| 膜厚测量重复性* | 0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层) |
| 膜厚范围 | 透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关 |
| 折射率范围 | 1.3 – 10 |
| 探测光束直径 | Φ2-3mm |
| 入射角度 | 30°-90°，精度0.05° |
| 偏振器方位角读数范围 | 0-360° |
| 偏振器步进角 | 0.014° |
| 样品方位调整 | Z轴高度调节：12mm 二维俯仰调节：±4° |
| 允许样品尺寸 | 圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm |
| 配套软件 | * 用户权限设置 * 多种测量模式选择 * 多个测量项目选择 * 方便的数据分析、计算、输入输出 |
| 较大外形尺寸 | （入射角度70°时）550*375*260mm |
| 仪器重量（净重） | 约15Kg |
| 选配件 | * 半导体激光器 |
注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
性能保证
- ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
- 专业的椭偏测量原理课程
- 专业的仪器使用培训