电子芯片清洗用超纯水设备概述

　　电子芯片清洗用超纯水设备结合了两种成熟的水处理技术—电渗析技术和离子交换技术，我国称此为填充床电渗析或电去离子技术。它主要替代传统的离子交换混床来生产高纯水。EDI技术是一种新的纯水和超纯水制备技术。该技术将电渗析技术和离子交换技术相融合，通过阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用与离子交换树脂对离子的交换作用，在直流电场的作用下实现离子的定向迁移，从而完成水的深度除盐，水质可达15MΩ.cm以上。

　　电子芯片清洗用超纯水设备原理

　　EDI模块(膜堆)是电子芯片清洗用超纯水设备工作的核心。一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成，一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室(D-室)、一个阳膜、一个阴膜、一个浓水室(C-室)组成。EDI膜堆包含多个膜单元对。在每个膜堆的内部有两个带有600V电压的电极，这是通过每个膜堆必需的电压。正极带正电压，负极带负电压，电流在正极和负极之间通过30个膜单元。任一个淡水室都包含着阳树脂和阴树脂，它相当于一个8千米厚的混床。一个阳膜朝着阴极的方向把淡水室和浓水室分开，在另外一边，阴膜也把淡水市和浓水室分开。EDI用的膜和RO用的膜很不相同，RO用的膜允许小颗粒的分子污染物和离子以及水通过，而EDI膜象离子交换树脂一样是用聚苯乙烯材料制作的，只允许带适当电荷的离子通过，水基本上不能通过。树脂通过水的分离持续的再生。在电场中，给水中的水分子被分离成H+和OH- ，被异性电荷相吸，H+通过阳阳树脂移向阴极的方向，OH-通过阴树脂移向阳极的方向。这种H+和OH-的迁移再生了树脂，阳膜允许H+通过进入浓水室，阴膜允许 OH-通过也进入浓水室，H+和OH-结合生成生产的水。浓水室中自己水的流动将带走水中的阴阳离子。膜阻止带相反电荷的离子的进入淡水室在水流通过淡水室的过程中，离子被树脂去处，所以膜的有效侧(淡水室)就会产生纯水。

　　电子芯片清洗用超纯水设备特点

　　高纯度效能，水质稳定。

　　占地空间小，模块式组合易扩充。

　　运行成本低，操作简易及维护方便，连续运行及再生，可24小时不间断供水。

　　无废水处理问题，无需药物再生及无药物储存问题。

　　辽阳日月科技有限公司成功案例

　　辽阳日月科技有限公司占地面积达到11000平方米，建筑面积达到3700平方米。公司的注册资金达到180万美元，现有资产为2315万人民币，公司的职工达到200人，骨干均有多年的生产、管理经验。公司的生产条件非常*，资金雄厚。公司主要经营半导体封装，因此，离不开超纯水设备的使用，为此，与我们厂家建立了长期的合作协议，我们的超纯水设备质量可靠，价格合理，出水稳定，受到用户的一致认可。