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面议JEM-3200FS 场发射透射电子显微镜
JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。
产品规格:
物镜极靴*1 | 超高分辨UHR | 高分辨率HR | 高倾斜HT | 高衬度HC |
分辨率 | ||||
点分辨率 | 0.17nm | 0.19nm | 0.21nm | 0.26nm |
能量分辨率 | 0.9 eV(零损失FWHM) | |||
加速电压 | 300kV,200kV,100kV*2 | |||
最小步长 | 100V | |||
电子枪 | ||||
发射体 | ZrO/W(100) 肖特基式 | |||
亮度 | ≧7×108 A/cm2 ・ sr | |||
真空度 | 3×10-8Pa | |||
探针电流 | 探针直径为1nm时,电流在0.5nA以上 | |||
稳定度 | ||||
加速电压 | 2×10-6/min | |||
物镜电流 | 1×10-6/min | |||
过滤器透镜电流 | 1×10-6/min | |||
物镜 | ||||
焦距 | 2.7 mm | 3.0 mm | 3.5 mm | 3.9 mm |
球差系数 | 0.6 mm | 1.1 mm | 1.4 mm | 3.2 mm |
色差系数 | 1.5 mm | 1.8 mm | 2.2 mm | 3.0 mm |
最小焦距步长 | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.5 nm | 4.1 nm |
束斑尺寸 | ||||
TEM 模式 | 2 ~ 5 nmφ | 2 ~ 5 nmφ | 7 ~ 30 nmφ | |
EDS 模式 | 0.4 ~ 1.6 nmφ | 0.5 ~ 2.4 nmφ | 4 ~ 20 nmφ | |
NBD 模式 | 0.4 ~ 1.6 nmφ | 0.5 ~ 2.4 nmφ | - | |
CBD 模式 | 0.4 ~ 1.6 nmφ | 0.5 ~ 2.4 nmφ | - | |
电子束衍射 | ||||
衍射角(2α) | 1.5 t~ 20 mrad | - | ||
取出角 | ±10 ° | - | ||
倍率 | ||||
MAG 模式 | ×2,500 ~ 1,500,000 | ×2,000 ~ 1,200,000 | ×1,500 ~ 1,200,000 | |
LOW MAG 模式 | ×100 ~ 3,000 | |||
SA MAG 模式 | ×8,000 ~ 600,000 | ×6,000 ~ 500,000 | ×5,000 ~ 500,000 | |
视野 | 10eV时狭缝宽度60mm(底片上) | |||
相机长度 | ||||
选区电子衍射 | 200 ~ 2,000 mm | 250 ~ 2,500 mm | 400 ~ 3,000 mm | |
EELS 散射 | ||||
能量选择 | 0.85 μm/eV , 300 kV | |||
底片上 | 100 ~ 220 μm/eV , 300kV | |||
样品室 | ||||
样品移动范围 (XY/Z) | 2mm/0.2mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm |
样品倾斜角 (X/Y) | ±25°/±25°*3 | ±35°/±30°*3 | ±42°/±30°*3 | ±38°/±30°*3 |
EDS*4 | ||||
固体角 | 0.13 sr | 0.09 sr | ||
取出角 | 25° | 20° |
产品特点:
· JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。
· 镜筒内置式Ω型能量过滤器(omega 过滤器)
· 镜筒内置式Ω型能量过滤器内置于成像透镜系统,能容易地获得能量过滤像和能量损失谱,同时还能获得与传统电子显微镜同等的放大倍率范围。此外、Ω型过滤器的电子光学系统在设计上地减少了图像畸变,出厂前还将剩余一点的畸变做了最后的修正。JEM-3200FS还采用了高灵敏度的相机系统及图像处理系统(选配件),可以构建元素面分布系统及能量损失谱系统。
· 新型控制系统
· 电子枪、电子光学系统、测角台、抽真空系统等电子显微镜基本功能的系统化,实现了高稳定、高性能的控制系统。图像画面和用户界面 采用Windows ®*1,可以进行编程操作和附件的集中控制。
· 新型测角台
· 系统化的新型测角台内置压电陶瓷驱动机构,使高倍率下的样品移动更加精确。*2.
· *1 : 注意事项:Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标。
*2 : 仅有压电元件包括在基本单元中,压电元件的电源为选配件。