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EDI的基本工作原理:
EDI(ELECTRO-DE-IONIZATION)是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不,又利用电渗析极化而发生水电离产生H和OH离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,是20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展,EDI技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场
EDI装置包括阴/阳离子交换膜、离子交换树脂、直流电源等设备。其中阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子通过,而阳离子交换膜只允许阳离子透过,不允许阴离子通过。离子交换树脂充夹在阴 阳离子交换膜之间形成单个处理单元,并构成淡水室。单元与单元之间用网状物隔开,形成浓水室。在单元组两端的直流电源阴 阳电极形成电场。来水水流经淡水室,水中的阴 阳离子在电场作用下通过阴 阳离子交换膜被清除,进入浓水室。在离子交换膜之间充填的离子交换树脂大大地提高了离子被清除的速度。同时,水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持状态。EDI装置将给水分成三股独立的水流:纯水、浓水、和极水。纯水(90%-95%)为最终得到水,浓水(5%-10%)可以再循环处理,极水(1%)排放掉。图2表示了EDI的净水基本过程。
EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗透(RO)配合使用,组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5MΩ·cm,反渗透装置可以满足要求。EDI装置可生产电阻率高达18MΩ·cm以上的超纯水。
EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。EDI技术被制药工业、微电子工业、发电工业和实验室所普遍接受。在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。
EDI纯水设备安装要求:
1、无须专做安装基础,地基坚实水平即可
2、入水水压如低于0.2 Mpa需加装管道泵
3、使用前需先冲洗管道,避免杂质堵塞阀体,污染树脂
4、不可用加碘盐、加钙盐作再生剂,定期向盐罐加盐,确保盐水饱和浓度(应保证溶 解时间不小于六小时)。
EDI纯水设备应用范围:
电子、电镀、电泳、化工、光学工纯水超纯水设备,单晶硅半导体、集成电路芯片、显像管、计算机硬盘、玻壳、液晶显示器、光学玻璃清洗、汽车、家用电器、五金、塑料、饰品、建材产品表面涂装、、电池(蓄电池)生产;阳极、阴极电泳漆超滤回收及系统等;化工反应冷却、电镀配液、化学药剂、精细化工制造过程用工艺纯水等行业。
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