硅片超声波清洗机-济宁科强超声检测仪器有限公司手机版

详细介绍

1.硅片超声波清洗机是超声波清洗机在电子行业的常见应用产品，目前应用广泛的硅片超声清洗产品多为分体单槽超声波清洗机。

2.硅片为什么需要超声波清洗？

半导体器件生产中玻璃硅片须经严格清洗，即使是微量污染也会导致器件失效。

清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。

有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。

无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电。

颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。

3.KQ系列分体单槽硅片超声波清洗机技术参数：

型号	发生器体积(mm)		清洗槽容积（mm)	频率（KHz)			功率	加热
KQ -1000	430×380×160		460×390×280	20	25	40	1000	无
KQ -1000Q	430×380×160		460×390×280	20	25	40	1000	有
KQ -1200	430×380×160		580×360×250	20	25	40	1200	无
KQ -1200Q	430×380×160		580×360×250	20	25	40	1200	有
KQ -1500	430×380×160		650×420×250	20	25	40	1500	无
KQ -1500Q	430×380×160		650×420×250	20	25	40	1500	有
KQ -1800	430×380×160		700×450×280	20	25	40	1500	无
KQ -1800Q	430×380×160		700×450×280	20	25	40	1500	有
KQ -2000	430×380×160		740×500×280	20	25	40	2000	无
KQ -2000Q	430×380×160		740×500×280	20	25	40	2000	有
KQ -3500	460×420×180		按要求加工	20	25	40	3500	无
KQ -5000	460×420×180		按要求加工	20	25	40	5000	无
KQ -10000		按要求加工	按要求加工	20	25	40	10000	无
注：可以根据客户要求加工定做多槽式超声波清洗机，配置粗洗，精洗，热风烘干功能