产品简介

全新立式全谱光谱采用国际标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，与国际光谱仪技术同步，采用真空光学室设计及全数字激发光源、的ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有的性能、极低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。

 

产品特点

• 优化设计的真空光学系统：整体光学室装置、帕邢-龙格结构设计，所有谱线集成在罗栏园上；直射式光学技术及透镜ＭｇＦ２材料，保证Ｃ、Ｓ、Ｐ、Ｎ紫外波长的能量。

• 全数字激发光源：全数字、高能预燃技术（HEPS），不同样品设置不同的激发参数，提高样品的测量精度和相似性，提高样品激发速度，提高火花稳定性，使样品有更好的重现性。

• 功能性设计的激发装置：集成气路、喷射电极技术，开放式铜火花台，不仅保证样品测量精度还能购测量各种复杂形状的样品（含线材），单板式透镜装置设计，一般人员都能方便对激发台进行进行维护和透镜的清洗。

• 高集成、高速度读出系统：高性能CCD固态检测技术，波段内谱线全谱接收； FPGA及高速数据通讯技术，数据读入功能强大，检测数据整体读入时间短。

• 直观、易操作的分析软件：基于WINDOWS系统的多国语言的ＣＣＤ全谱分析软件的管理和控制整个测量过程，为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力；仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析及的解决方案；仪器实现全谱分析，智能扣干扰，扣暗电流、背景和噪声的算法，极大的提高了仪器的分析能力。

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技术参数

 

• 光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

• 波长范围：170nm~580nm

• 焦距：400mm

• 探测器：高性能CCD阵列

• 光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

• 放电频率：100-1000Hz

• 放电电流：400A

• 工作电源：220VAC 50/60Hz

• 仪器尺寸：720*860*500

• 仪器重量：约100kg（不含真空系统）

• 检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右

• 电极：钨材喷射电               

• 氩气要求：99.999％

• 氩气进口压力：0.5MPa

• 氩气流量：激发流量约3.5L/min

• 工作温度：10℃～35℃

• 工作湿度：20％～85％

• 分析间隙：真空软件自动控制、监测