产品类型：能量色散X荧光光谱分析仪

产品名称：光谱分析仪

产品型号：XAU

产品优势：

XAU是一款一机多用型光谱仪，应用了的EFP算法和微光聚集技术，既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能，又可满足成分分析。

被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。

1）搭载微聚焦X射线发生器和的光路转换聚焦系统，最小测量面积达0.03mm²

2）拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-30mm

3）核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精准检测层Ni和第三层Ni的厚度）

4）配备高精密微型移动滑轨，可实现多点位、多样品的精准位移和同时检测

5）装配Si-Pin半导体探测器，即便测量0.03mm²以下的样品，几秒钟也可达到稳定性

6）涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）

7）成分分析范围：铝Al（13）- 铀U（92）

8）人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作

9）标配4准直器可选，最小测量面积可达0.03mm²

10）配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度小于10%

仪器配置：

1. 微聚焦X射线管：高稳定性X射线发生器

        —铍窗口，油绝缘，气冷式，辐射安全电子管屏蔽

        —50kV，1mA，高压和管流设定为应用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射线标准，如有特殊要求，也可协商定制

2. 接收器：Si-Pin半导体探测器

        —窗口面积≥25mm²

3. 滤光片：

        标配一种滤光片

4. 光路转换器

        —φ0.5mm，φ0.3mm，φ0.2mm，£0.1*0.3mm四准直器可选

5. 定制专享高敏感镜头

        —1/2.7”彩册CCD高敏感可变焦镜头，全局快门，有效像素：1280*960，光学38-46X，数字放大40-200倍  

6. 恒压恒流快门式光闸

    —拥有高压电源紧急自锁功能，带给您更安全的防护

7. 移动平台

        —手动高精密XY移动滑轨，移动范围50mm*50mm，精度0.01mm

8. 全新一代高压电源

—性能稳定可靠，高达50W的功率实现更高的测试效率

9. 对流通风式过滤风冷

—的散热系统配备，仪器即便全天候开启，都可保持恒温恒效

10. 随附标准片

        —免费提供十二元素片、五选二标准片（ Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um）、其他规格（选配）

11. 其他配置

        —电脑一套、打印机、附件箱、电镀液测量杯（选配）

技术参数：

1. 成分分析范围：铝（Al）- 铀（U）

2. 成分检出限：5ppm

3. 涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）

4. 涂镀层检出限：0.005μm

5. 最小测量直径£0.1*0.3mm（最小测量面积0.03mm²）

    标配：最小测量直径0.3mm（最小测量面积0.07mm²）

6. 对焦距离：0-30mm

7. 样品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 仪器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 仪器重量：45KG

10. XY轴工作台移动范围：50mm*50mm

11. XY轴工作台承重：5KG

12. 多元迭代EFP核心算法（号：2017SR567637）

专业的研发团队在Alpha和Fp法的基础上，计算样品中每个元素的一次荧光、二次荧光、靶材荧光、吸收增强效应、散射背景等多元优化迭代开发出EFP核心算法，结合的光路转换技术、变焦结构设计及稳定的多道脉冲分析采集系统，只需要少量的标样来校正仪器因子，可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。

单涂镀层应用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂镀层应用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金镀层应用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分应用：如NiP/Fe，通过EFP算法，在计算镍磷镀层厚度的同时，还可精准分析出镍磷含量比例。

重复镀层应用：不同层有相同元素，也可精准测量和分析。

如钕铁硼磁铁上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，层Ni和第三层Ni的厚度均可测量。

仪器参数：