多晶硅过程气体分析系统YGM-3200型
    YGM-3200系统可连续监测工业硅提纯的三氯氢硅氢还原工艺中氢气的氧含量和微水含量以及在尾气管道保护气氮气的氧含量和微水含量，从而保证最后提炼超纯硅的品质。
系统特点
1. 取样系统为可插拔式探头，方便更换滤芯
2. 过滤器可过粉尘和硅粉，过滤精度为0.3μm
3. 大屏幕现场就地显示
4. 系统留有分析仪标定口，无须拆卸分析仪
5. 采用进口陶瓷阻抗式露点分析仪

技术参数
1) 型号：YGM-3200
2) 模拟输出：4-20 mA输出
3) 响应时间：T90<20s
4) 工作温度：-20º~+60º
5) 电源：24 VDC
6) 防护等级：IP65
7) 系统部件：316L不锈钢
8) 防爆标准：符合EEx ia IIC T4

微水分析仪：
a. 测量范围：-100~+20º
b. 精度：+20~-60º 露点范围内为±1º
c. -60~-100º 露点范围内为±2º
d. 工作压力： 真空~40 MPa
e. 计量单位：PPmW,℃
f. 防爆标准：非现场显示型符合EEx ia IIC T4
g. 现场显示型符合EEXd IIB T4

氧含量分析仪：
h. 测量范围：0/10/100PPm 1/10/25%
i. 精度：<1%FS
j. 计量单位：PPmW,%
k. 大气压力影响：大气压力影响：每变化1毫米汞柱读数变化±0.13%
l. 防爆标准： NEC/CEC Class Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Division 1
                      GroupsA,B,C,D,E,F,G;
                      CENELEC Eex ia Ⅱ c T4(60℃)BASEEFA Ceet.Nos.
                      Ex96D2442 and Ex 96D2444

典型用户
①　徐州中能
②　亚洲硅业
③　江苏顺大
④　江西赛维