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设备主要规格
电源系统 | 双微波电源 | 自主研发与华南理工大学合作 |
功率 | 0~2000W | |
频率 | 2.45GHz | |
真空系统
| 真空泵 | Kashiyama NeoDry60E |
真空管路 | 304不锈钢,高强度真空管路 | |
材质 | 铝合金 | |
腔体绝缘材质 | 陶瓷 | |
密封性 | 耐腐蚀硅胶密封圈 | |
腔体内部尺寸 | 24升 | |
清洗产品范围 | 180~250mm×30~80mm(长×宽)平面变形量<2 | |
料盒尺寸范围 | 200~270mm×37~97mm×150mm(长×宽×高) | |
轨道宽度调整方式 | 手动滚轮调节 | |
流道数量 | 4条,流片方向左进右出方式 | |
电极板工作面积 | 340×500mm | |
气体系统 | 流量范围 | 0~300SCCM |
工艺气体气路 | 标配氧气、氩气两路工艺气体(可定制) | |
控制系统 | 系统控制 | 工控机 |
防呆 | 夹料监控 | 可监控30~80mm引线框架 |
料盒防呆 | 可监控料盒是否已经放置到位 | |
UPH | UPH | 120PC Lead frame |
Plasma效果 | 清洗要求 | 有效去除物料正反面表面的氧化层 |
温度要求 | 连续工作温度不超过200℃ | |
其他参数 | 外形尺寸 | 宽1300×长2000×高2064mm(含指示灯高) |
重量 | 1000KG | |
功率 | 15KW | |
设备外观颜色 | 银灰色 |