ME-L 穆勒矩阵光谱椭偏仪厂家
ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的研发投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。全自动变角、对焦技术,一键快速测量;向导交互式人机界面,便捷的软件操作体验;丰富的材料数据库与算法模型库,强大的 参考价面议椭偏仪供应商
ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的研发投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。全自动变角、对焦技术,一键快速测量;向导交互式人机界面,便捷的软件操作体验;丰富的材料数据库与算法模型库,强大的 参考价面议膜厚仪供应商
SR-Mapping反射膜厚仪是超快速薄膜表征仪器,通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱,从而测量薄膜的厚度及光学常数。 参考价面议传感器供应商
SR系列膜厚传感器提供快速、稳定的膜厚在线量测解决方案。 参考价面议膜厚传感器供应商
半导体复杂膜层在线量测解决方案。 参考价面议椭偏仪生产
ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的研发投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。全自动变角、对焦技术,一键快速测量;向导交互式人机界面,便捷的软件操作体验;丰富的材料数据库与算法模型库,强大的 参考价面议膜厚仪生产
SR-Mapping反射膜厚仪是超快速薄膜表征仪器,通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱,从而测量薄膜的厚度及光学常数。 参考价面议传感器生产
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半导体复杂膜层在线量测解决方案。 参考价面议椭偏仪报价
ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的研发投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。全自动变角、对焦技术,一键快速测量;向导交互式人机界面,便捷的软件操作体验;丰富的材料数据库与算法模型库,强大的 参考价面议膜厚仪报价
SR-Mapping反射膜厚仪是超快速薄膜表征仪器,通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱,从而测量薄膜的厚度及光学常数。 参考价面议传感器报价
SR系列膜厚传感器提供快速、稳定的膜厚在线量测解决方案。 参考价面议