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SAL-1000 ALD原子层沉积系统
SAL-1000Series是由日本AGUS生产的桌面型ALD原子层沉积设备，可搭载2路前驱体。适用于4英寸（φ 100mm）基片的沉积，并可搭载粉末样品架和手套箱。
SAL-1000Sseries原子层沉积设备具备如下特点：
1. 良好的成膜性能，膜厚均匀性高，≤3%
| ·对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性； · 膜厚可精准控制达一个原子层； · 大面积制程可达到无孔洞薄膜（Pin Hole free） · 的重复性及稳定性 · 材料缺陷密度低 · 可成长非晶型或结晶薄膜（选择温度） |
2. 优异的真空性能，真空度≤5Pa
3. 触控操作，简单易用；
·触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。
| ·可进行自动沉积，并在沉积完成后自动完成N2排放。 |
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| ·手套箱的真空排气和惰性气体的引入也可自动完成。 |
4. 配件丰富，可满足多种试验需求：
基底旋转架、粉末样品配件、手套箱、臭氧发生器、尾气处理设备、200℃前驱体的加热器，干式真空泵等；
粉末沉积配件：倾斜框架可调整的角度为0 ~ 45°，更便于粉末成膜。单次可对5cm3的粉体进行表面沉积；
