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氩气纯化设备
处理气量:(1-200)Nm3/h压力:≤1.0Mpa氩气纯度:≥99.999%露点:≤-70℃含氧量:≤1.5ppm含氢量:≤0.5ppm含氮量:≤4ppmΣCH≤1ppm广泛应用于:熔硅单晶炉配套使用,激光器、溅射、半导体生产,气相色谱仪、特殊灯泡稀有金属加工等需要用高纯氩气的有关科研和生产部门
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