一．设备简介
半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、中国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。 荣大环保在满足用户用水标准的基础上，在设备系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

二．设计标准及依据

1. 根据用户提供的详细水质报告“量身定制”。

2. 水处理设备技术条件《JB/T 2932-1999》

3. 反渗透水处理设备标准《CJ/T119-2000》

4. 低压开关设备和控制设备成套装置《IEC439-1 》

5. 实验室超纯水技术指标标准《GB6682-2008 》

6. 国家电子级超纯水规格《GB/T11446.1-1997》

三．工艺流程

1、 原水－原水加压泵－多介质过滤器－活性炭过滤器－软水器－精密过滤器－级反渗透－PH调节－中间水箱－第二级反渗透－纯化水箱－纯水泵－EDI系统－超纯水箱－纯水泵－抛光装置－终端超滤－用水点

四．设计特点

1. 系统采用全自动控制(同时亦可采用手动控制），系统运行时可设定自动反洗、再生程序；

2. 各单元接线均在工厂内统一完成，减少安装调试时间；

3. 一级反渗透和二级反渗透设有回流管道，反渗透设备设有化学清洗装置；

4. 管道一般采用UPVC材质；

5. 集成控制系统和集成仪表系统等，方便操作管理；

6. RO膜定时清洗 具有开机和定时清洗RO膜功能，延长RO膜使用寿命；

7. 水回收率 通过特殊的工艺设计，大幅提高了设备的回收率，可达70%；

8. 设备具有耗材更换自动提示功能，并且耗材的更换周期取决于水质和压力的变化，而非根据耗材的使用时间，考虑到了各地水质的差异，设计更科学；

9. 自我保护功能 源水缺水自动停机保护功能同时具有水箱缺水自动产水、满水自动停机功能。