半导体对于人们来说非常熟悉，制造过程中需要用到纯度很高的水，也就是需要有半导体超纯水设备。设备的出水能达到清洗标准，电阻率在15MΩ.cm以上，能达到电子工业1级水质标准。设备运行可以灵活调节，可以根据用户实际做出调整。我们专业的超纯水设备厂家，根据半导体的性质，生产了专属于半导体的超纯水设备。

　　半导体超纯水设备工艺流程

　　半导体超纯水设备工艺流程严谨，每个系统之间连接紧密运行流畅。原水通过预处理的去除水中的悬浮颗粒物、胶体、铁锈和余氯，再通过双级反渗透和EID去除水中的钠离子和有机质，最后是通过抛光混床和终端过滤器就可以出水了。

　　半导体超纯水设备系统组成

　　半导体超纯水设备主要是由三部分组成，分别是前处理系统、预处理系统和后处理系统。前处理系统其中包括原水箱和原水加压泵。预处理系统包括双介质过滤器、活性炭过滤器、软水器和保安过滤器。后处理系统是紫外线杀菌灯，确保精处理系统的细菌指标。

　　半导体超纯水设备技术优势

　　半导体超纯水设备技术优势明显，多级预处理、主机系统以及后处理能去除大多数杂质。预处理可以去除原水中的悬浮物、胶体、硬度、有机物和余氯。主机系统的去除水中钠离子和细小的杂质，紫外线杀菌灯杀菌率99.99%以上。

　　我国现在的水环境相对于以往污染严重，水质情况不容乐观污染物质的含量比较复杂，处理起来也相当有难度。半导体超纯水设备采用的是技术成熟的EDI和反渗透装置，其中的RO膜能有效的拦截大部分的杂质，EDI的也能高产分离浓水和淡水。