高频输出：100~1,000W（V1000）/100~1,000W&1,500W（V1000X/1000XS）

电极尺寸：280×280mm（V1000）/300×300mm（V1000X）/400×375mm（V1000XS）

13.56MHz 高频输出的等离子清洗机，搭载RIE·DP 双模式。

使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式高性能型号，调取数据简单，以电子材料为中心，可对应多种用途。

■ 用途

● 硅晶圆的灰化及蚀刻

● 基板表面污垢处理

● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理

● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗

● 自然氧化膜·有机物去除

● 界面活性处理

● 表面污染物去除。

■ 特征

● 可变更电极构造提高等离子效果。

● 搭载高精度适配器，高性能RF 电源。

● 可根据需求规格提供定制。

■ 规格