等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
采用第2、3代技术的等离子清洗机（第1代是压缩空气,第2代是氮气，第3代是氩气），在3种大气等离子清洗机中清洗能力，清洗效果与真空等离子清洗机相当,行业内称为大气清洗机。
氩气的不掉渣、不产生静电、清洗；氮气的使用方便、清洗效果好；
氩气38℃的超低温等离子火焰，热损伤最小，对OLED显示屏及芯片无损伤，不会引起显示屏发；氮气65℃等离子火焰；
氩气产生等离子的电源电压是300V, 低电压不会损伤清洗基材、导电膜，氮气电压是20000V,高压清洗使基材表面散落下颗粒；
生产速度快，生产速度与机器皮带速度及等离子头数量有关。

 

技术参数：