矽碁超高真空磁控溅射镀膜机采用国际UHV配件及金属密封件，本底真空可达到10^-9 ~ 10^-10 Torr量级。在超高真空环境下制备出的薄膜材料含氧量低、晶粒性更为明显，广泛适用于超导结、量子器件和自旋电子学的研究开发。

技术参数：

1 本底真空可达10^-9 ~ 10^-10 Torr；

2 单基片设计，尺寸可定制；

3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；

4 最多可拓展8支磁控溅射靶枪，共溅射；

5 靶枪角度可调，溅镀距离可调，可升级强磁靶；

6 防交叉污染隔板设计；

7 可配备离子束辅助沉积；

8 可配备样品预清洗功能；

9 可配备快速进样室；

10 可配备自动压力控制系统；