热蒸发镀膜机
品牌
其他厂商性质
深圳市所在地
深圳海创德科技有限公司
组合推荐相似产品
Mini Line 微型器件平台
手动镀膜系统
OLED CLUSTER镀膜设备
磁控溅射（共溅射）
超高真空磁控溅射镀膜机
多工位磁控溅射镀膜机
线性磁控溅射镀膜机
低压化学气相沉积（LPCVD）
化学气相沉积（PECVD）
ICP增强化学气相沉积（ICP-CVD）
量产型原子层沉积
热丝辅助化学气相沉积（HWCVD／HW-PECVD）
把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程，称为真空蒸发镀膜，简称蒸发镀膜或蒸镀。
技术参数：
1 本底真空10-7 Torr；
2 束源炉，坩埚，蒸发舟等；
3 石英晶振测量膜厚；
4 基片加热温度可选：300℃/500℃/850℃；
5 可配备离子束辅助沉积；
6 可配备快速进样室；
7 可与手套箱集成；
8 可根据用户要求定制系统；
首页
展台
留言
联系方式
请选择您要拨打的电话：
