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低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积，可进行大面积小批量样品沉积。
技术参数：
1 基片尺寸可定制，可达10 英寸；
2 加热温度 1700 ℃，单温区或者多温区可选；
3 最多可配置6路工艺气体；
4 配备油泵或者干泵，可选配分子泵；
5 样品水平，垂直两种配置模式；
6 可小批量量产；
应用领域：
LPCVD
退火
扩散
氧化
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