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Mini Line 微型器件平台
为克服器件制造的设备空间限制，矽碁科技开发出适合2英寸晶圆的小型半导体制造平台-MiniLine，配置灵活，占地面积小，运行成本低 参考价面议 -
手动镀膜系统
手动磁控溅射系统适用于本科生教学，研究生科研训练，也可以应用于科研工作 参考价面议 -
OLED CLUSTER镀膜设备
有机发光二极管(OLED)技术作为一种新兴显示技术，具有器件轻薄、可视角度大、柔性显示、节省电能等优势，已广泛应用于各个领域 参考价面议 -
磁控溅射（共溅射）
磁控溅射是物理气相沉积技术(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种 参考价面议 -
超高真空磁控溅射镀膜机
矽碁超高真空磁控溅射镀膜机采用国际UHV配件及金属密封件，本底真空可达到10-9~10-10Torr量级 参考价面议 -
多工位磁控溅射镀膜机
多工位磁控溅射镀膜机可同时放置多片基片，适应研发线或中试线的小批量生产 参考价面议 -
电子束蒸发镀膜机
对传统热蒸发技术难以实现的材料蒸发，可采用电子束蒸发(E-beamEvaporation)的方式来实现 参考价面议 -
线性磁控溅射镀膜机
立式线性连续磁控溅射适用于大尺寸基板产品的研发及生产，设备由进样室，溅镀室，出样室和基片传递机构组成，可实现连续镀膜，广泛应用于显示器件及光伏电池薄膜的开发及生产 参考价面议 -
有机物蒸发镀膜机
利用优异保温效果的坩埚实现有机物材料的稳定蒸发，同时借助超高精度的石英晶振达到蒸发速率的确控制，矽碁科技可提供性能稳定的有机物蒸发镀膜机，主要用于有机物材料验证，OELD器件镀膜机，OPV器件镀膜机，有机CMOS镀膜机等 参考价面议 -
热蒸发镀膜机
把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程，称为真空蒸发镀膜，简称蒸发镀膜或蒸镀 参考价面议 -
低压化学气相沉积（LPCVD）
低压化学气相沉积(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积，可进行大面积小批量样品沉积 参考价面议 -
化学气相沉积（PECVD）
化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是指高温环境下气态反应剂在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程，广泛应用于金属、氧化物、氮化物及碳化物等无机薄膜的制备 参考价面议